题名:
影响世界的发明专利
/ 胡佐超主编；戴吾三等著 ,
ISBN:
978-7-302-22279-8 价格： CNY69.00元
语种:
chi
载体形态:
639页 16开
出版发行:
出版地： 北京 出版社：
清华大学出版社
出版日期： 2010.5
中图分类法:
G306 版次： 4
主要责任者:
胡佐超
主编
主要责任者:
戴吾三等
著
索书号:
G306/1