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题名:
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纳米集成电路制造工艺 na mi ji cheng dian lu zhi zao gong yi / 张汝京等编著 , |
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ISBN:
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978-7-302-45233-1 价格： CNY89.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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14,471页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2017 |
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内容提要:
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本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM(Design for Manufacturing)，集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。 |
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主题词:
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纳米材料 集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 5 |
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主要责任者:
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张汝京 zhang ru jing 编著 |
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版次:
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2版 |
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索书号:
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TN405/3=2 |